光子学报
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光子学报  2018, Vol. 47 Issue (3): 0324001    DOI: 10.3788/gzxb20184703.0324001
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基于磁控溅射和ICP刻蚀的RB-SiC表面平坦化工艺
赵杨勇, 刘卫国, 惠迎雪
西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室, 西安 710021
Surface Planarization Process of RB-SiC Based on Magnetron Sputtering and ICP Etching
ZHAO Yang-yong, LIU Wei-guo, XI Ying-xue
Shaanxi Province Thin Film Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xi'an Technological University, Xi'an 710021, China

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